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该设备属生产设备，主要功能包括：钛/锆磁控溅 射镀装饰膜，反应膜、复合膜。其它功能还包括：行星旋 转基片台、负偏压辅助沉积、PLC+HMI真空自动/手动控 制、水冷循环及断水保护系统，预留多个标准接口。真空腔室的模块化设计和加工。通过此项技术提高了腔室设计和加工效率，提高了重大部件的加工质量和互换性，缩短了整条线的交货周期。使用高性能旋转阴极和中频电源，大蒸发电流达到400A，大大提高生产效率及膜层性能；通过辅助5段供气，提高真空环境工艺气体分布均匀性，提高膜层质量；安装整体式模块化阴极屏蔽挡板，大大减少维修时间，降低维修成本。阴极采用隔离冷却装置，改变以往阴极磁钢因工作在循环水中不断吸附杂质而影响磁场强度和寿命。新方法使磁钢工作在真空环境，大大提高了阴极稳定性和寿命。采用自主的倾斜式磁钢矩阵排列，扩大了阴极靶材表面气隙场范围，增大了靶材被刻蚀溅射的面积，提高靶材的利用率和均匀性。表面气隙场水平分量均匀性在±2%以内。使用自主的三维空间磁场测量分析系统，系统用于测量磁钢阵列的空间气隙场分布及磁钢安装、调整，为阴极提供有效的技术手段。触摸屏+PLC，可以实现电脑全自动控制，自动/手动随时切换。同时配备的圆柱磁控溅射装置和的电阻加热蒸发装置，将磁控溅射技术和加热蒸发技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜 本文章位置：http://www.epyes.com/article/article/50949.html